全球首款第二代High NA EUV光刻机正式出货

徐允全

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全球领先的光刻设备制造商近日宣布，其最新研发的第二代High NA EUV光刻机已正式出货，标志着半导体制造技术迈入新阶段。这台名为EXE:5200的设备是此前初代High NA EUV机型EXE:5000的升级版本，首个客户为英特尔，单台售价接近30亿元人民币。
相较于前代产品，EXE:5200具备更高的晶圆处理能力，可满足2纳米及以下制程的大规模生产需求。初代EXE:5000每小时可处理超过185片晶圆，而新款设备在性能上进一步提升，有助于提高芯片制造效率。
TWINSCAN EXE:5000与EXE:5200均采用了0.55数值孔径的光学系统，相较上一代0.33数值孔径的EUV设备，在分辨率和精度方面均有显著增强，能够支持更微小晶体管结构的实现。这一技术突破预计将从2025年起推动多个先进制程节点的发展，并逐步应用于具备类似密度要求的存储器制造中。
值得注意的是，由于受到多方面因素的限制，此类尖端设备目前无法向中国地区的厂商供货，这一限制并非源于价格层面，而是基于更复杂的考量。